[实用新型]一种用于延长靶材供给镀膜时间的离子镀膜源装置

摘要

本实用新型涉及一种用于延长靶材供给镀膜时间的离子镀膜源装置，包括源底座，源底座上设置有源阳极管和靶材装置，真空腔室上具有连接装置，连接装置和源阳极管之间进行可拆卸式密封装配连接，靶材安装在靶材装置上，源阳极管上设置有用于敲击靶材的敲击装置，还包括调节装置，调节装置用于调整靶材沿源阳极管的中心线方向进行移动。本实用新型提供的上述技术方案，可以使用长度加长后的靶材，可延长靶材供给镀膜的时间11倍左右，减少了靶材更换频率，节省时间。并且通过调节装置的调整，使靶材的离化面一直处于有利有效的工作位置，保证靶材离化的均匀。