[实用新型]一种用于提高离子真空镀膜均匀性的离子镀膜源装置有效
| 申请号： | 202123283502.4 | 申请日： | 2021-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN216550669U | 公开（公告）日： | 2022-05-17 |
| 发明（设计）人： | 张心凤;夏正卫 | 申请（专利权）人： | 安徽纯源镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 合肥九道和专利代理事务所(特殊普通合伙) 34154 | 代理人： | 胡发丁 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于提高离子真空镀膜均匀性的离子镀膜源装置，包括源底座，源底座上设置有源阳极管和靶材装置，真空腔室上具有连接装置，连接装置和源阳极管之间进行可拆卸式密封装配连接，靶材安装在靶材装置上，源阳极管上设置有用于敲击靶材的敲击装置，还包括对靶材上离化面的平整度进行修整的修面机构。本实用新型提供的上述技术方案，通过设置的修面机构，使得靶材离化面一直保持平整状态，提高了镀膜的均匀性，使镀膜工艺更稳定，并可大量镀膜，提高产量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 提高 离子 真空镀膜 均匀 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
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