[实用新型]一种用于异形屏的掩膜条结构

摘要

本实用新型公开了一种用于异形屏的掩膜条结构，包括金属掩膜条主体，金属掩膜条主体的两端中部设有开口向外的U型槽，金属掩膜条主体的表面设有若干组等间距分布的蚀刻区域，蚀刻区域包括呈圆形设置的有效区域和位于有效区域外侧的呈矩形设置的缓冲区域。有效区域采用双面蚀刻工艺，将金属掩膜条主体双面蚀刻后，产生通孔。缓冲区域采用双面蚀刻加单面填充工艺，在缓冲区域正面蚀刻出的凹槽中填充1‑3um的阻挡层。本实用新型可以提高用于异形屏的金属掩膜条主体张网良率，提高张网效率，本实用新型金属掩膜条主体的结构减缓异形屏的受力不均匀现象，解决褶皱问题，降低混色风险，改善混色现象。