[外观设计]防微振基座（NXT-MK2光刻机）有效
| 申请号： | 202130669574.9 | 申请日： | 2021-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN307151428S | 公开（公告）日： | 2022-03-08 |
| 发明（设计）人： | 何成伟 | 申请（专利权）人： | 协伟集成电路设备(上海)有限公司 |
| 主分类号： | 15-09 | 分类号： | 15-09 |
| 代理公司： | 上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙) 31258 | 代理人： | 何葆芳 |
| 地址： | 201614 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 1.本外观设计产品的名称：防微振基座（NXT‑MK2光刻机）。2.本外观设计产品的用途：用于NXT‑MK2光刻机的防微振安装固定。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。 | ||
| 搜索关键词： | 防微振 基座 nxt mk2 光刻 | ||
【主权项】：
暂无信息
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