[发明专利]一种薄膜晶体管、显示基板及其制作方法和显示装置在审

专利信息
申请号: 202180000493.7 申请日: 2021-03-15
公开(公告)号: CN115917758A 公开(公告)日: 2023-04-04
发明(设计)人: 黄杰;赵坤;宁策;李正亮;胡合合;贺家煜;姚念琦;刘凤娟;雷利平 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 解婷婷;曲鹏
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种薄膜晶体管、显示基板及其制作方法和显示装置,其中,薄膜晶体管,设置在基底上,包括:依次设置在基底上的有源层和源漏电极,有源层包括:第一沟道区域和第二沟道区域;第一沟道区域在基底上的正投影与源漏电极在基底上的正投影无重叠区域;第一沟道区域的长度方向的边缘的形状为非直线形,且第一沟道区域的长度方向的边缘的长度大于源漏电极之间的距离。
搜索关键词: 一种 薄膜晶体管 显示 及其 制作方法 显示装置
【主权项】:
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