[发明专利]薄膜晶体管、半导体基板和X射线平板探测器在审
申请号: | 202180001030.2 | 申请日: | 2021-04-30 |
公开(公告)号: | CN114175271A | 公开(公告)日: | 2022-03-11 |
发明(设计)人: | 黄杰;李正亮;宁策;胡合合;姚念琦;赵坤;刘凤娟;周天民;雷利平 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/768 | 分类号: | H01L29/768 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 焦玉恒;王锐 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 一种薄膜晶体管(TFT)包括:栅极(170)、有源层(SL)、位于栅极(170)和有源层(SL)之间的栅极绝缘层(160)、以及电连接到所述有源层(SL)的源极(181)和漏极(182)。有源层(SL)包括在堆叠方向上重叠设置的沟道层(CL)和至少一个沟道保护层(PL1;PL2),沟道层(CL)和至少一个沟道保护层(PL1;PL2)每个的材料均为金属氧化物半导体材料。至少一个沟道保护层(PL1;PL2)为结晶层,且至少一个沟道保护层(PL1;PL2)的金属元素包括非稀土金属元素,所述非稀土金属元素包括In、Ga、Zn和Sn。这样,能够有效减少沟道层的缺陷,从而有效改善了薄膜晶体管的整体稳定性。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 半导体 射线 平板 探测器 | ||
【主权项】:
暂无信息
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