[发明专利]薄膜晶体管、半导体基板和X射线平板探测器在审

专利信息
申请号: 202180001030.2 申请日: 2021-04-30
公开(公告)号: CN114175271A 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: 黄杰;李正亮;宁策;胡合合;姚念琦;赵坤;刘凤娟;周天民;雷利平 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L29/768 分类号: H01L29/768
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 焦玉恒;王锐
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种薄膜晶体管(TFT)包括:栅极(170)、有源层(SL)、位于栅极(170)和有源层(SL)之间的栅极绝缘层(160)、以及电连接到所述有源层(SL)的源极(181)和漏极(182)。有源层(SL)包括在堆叠方向上重叠设置的沟道层(CL)和至少一个沟道保护层(PL1;PL2),沟道层(CL)和至少一个沟道保护层(PL1;PL2)每个的材料均为金属氧化物半导体材料。至少一个沟道保护层(PL1;PL2)为结晶层,且至少一个沟道保护层(PL1;PL2)的金属元素包括非稀土金属元素,所述非稀土金属元素包括In、Ga、Zn和Sn。这样,能够有效减少沟道层的缺陷,从而有效改善了薄膜晶体管的整体稳定性。
搜索关键词: 薄膜晶体管 半导体 射线 平板 探测器
【主权项】:
暂无信息
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