[发明专利]具有Si覆膜的铜合金粉末及其制造方法在审
| 申请号： | 202180006563.X | 申请日： | 2021-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN114765968A | 公开（公告）日： | 2022-07-19 |
| 发明（设计）人： | 渡边裕文;涩谷义孝 | 申请（专利权）人： | 捷客斯金属株式会社 |
| 主分类号： | B22F1/16 | 分类号： | B22F1/16;C22C9/00;B22F10/28;B33Y70/10;C22C1/04 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 胡嵩麟;王海川 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种铜合金粉末及其制造方法，该铜合金粉末为用于基于激光束方式的增材制造的金属粉末，并且该铜合金粉末能够进一步提高激光吸收率，并且能够抑制通过颈缩进行的热传导。一种铜合金粉末，所述铜合金粉末含有合计15重量％以下的Cr、Zr和Nb中的任意一种以上元素，并且剩余部分包含Cu和不可避免的杂质，其特征在于，在所述铜合金粉末上形成有含有Si原子的覆膜，并且在形成有所述覆膜的铜合金粉末中，Si浓度为5重量ppm以上且700重量ppm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 si 铜合金 粉末 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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