[发明专利]真空室密封件在审

专利信息
申请号: 202180010543.X 申请日: 2021-01-22
公开(公告)号: CN115004320A 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: P·霍利根;J·帕金;J·达林;L·卡巴列罗·本迪克森;O·霍尔 申请(专利权)人: 第一光融有限公司
主分类号: G21B1/17 分类号: G21B1/17;H05H7/14;H01J5/32;H01J5/46;H01J9/32;H01R13/53;H01B17/26
代理公司: 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 代理人: 郁旦蓉
地址: 英国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 披露了一种用于真空室的密封件,该密封件由两个外绝缘块(14)、(16)、中间绝缘块(34)、(36)、一些内部绝缘片(74)、(76)、(78)以及一些外部绝缘片(80)、(82)、(84)形成。第一外绝缘块(14)密封在该真空室的第一壁(2)与第一电力传输板(10)之间。第二外绝缘块(16)密封在该真空室的第二壁(4)与第二电力传输板(12)之间。中间绝缘块密封在该第一电力传输板与第二电力传输板之间。这些内部绝缘片被布置在该中间绝缘块的第一侧中的槽(62)、(64)、(66)中。这些外部绝缘片被布置在该中间绝缘块的第二侧中的槽(68)、(70)、(72)中。
搜索关键词: 真空 密封件
【主权项】:
暂无信息
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