[发明专利]用于光电器件信噪比的增强的结构和材料工程方法在审

专利信息
申请号: 202180010739.9 申请日: 2021-01-25
公开(公告)号: CN115004372A 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: 陈泰舟;舒伯特·S·楚;埃罗尔·安东尼奥·C·桑切斯;约翰·蒂莫西·博兰德;叶祉渊;洛里·华盛顿;陶冼智;黄奕樵;吴贞莹 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;赵静
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种制造半导体器件的方法包括:在传感器基板的正面之上形成互连结构,从传感器基板的背面使传感器基板变薄,将沟槽蚀刻进传感器基板中,预清洁传感器基板的暴露的表面,直接在传感器基板的经预清洁的暴露的表面上外延生长电荷层,并且在经蚀刻的沟槽内形成隔离结构。
搜索关键词: 用于 光电 器件 增强 结构 材料 工程 方法
【主权项】:
暂无信息
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