[发明专利]伪随机点图案及其作成方法在审
| 申请号： | 202180012658.2 | 申请日： | 2021-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN115004064A | 公开（公告）日： | 2022-09-02 |
| 发明（设计）人： | 塚尾怜司 | 申请（专利权）人： | 迪睿合株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 何欣亭;李啸 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供能够更加容易地以几何学方法作成的伪随机点图案。该伪随机点图案具有在xy平面中沿着y方向隔着既定间隔重复配置第1斜方格子区域和第2斜方格子区域的点配置，在第1斜方格子区域中沿着与x方向以角度α斜交的b方向排列有多个在x方向上以既定间距配置了点的点的排列轴a1，在第2斜方格子区域中沿着使所述b方向相对于x方向反转后的c方向排列有多个在x方向上以既定间距配置了点的点的排列轴a2。 | ||
| 搜索关键词： | 随机 图案 及其 作成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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