[发明专利]曝光装置在审
| 申请号： | 202180020118.9 | 申请日： | 2021-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN115380250A | 公开（公告）日： | 2022-11-22 |
| 发明（设计）人： | 木村一彦 | 申请（专利权）人： | 纳米系统解决方案株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 刘茜璐;吕传奇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供一种能够在确保吞吐量的同时提高曝光精度的曝光装置。曝光装置（100）具备：反射型液晶调制装置（21、22）；光源装置（10），用均匀化后的紫外线波长区域的脉冲状的激光光同样地照明反射型液晶调制装置（21、22）；投影光学系统（30），使由反射型液晶调制装置（21、22）调制后的反射光进行成像；以及工作台（40），支承利用由投影光学系统（30）成像后的图案进行曝光的对象。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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