[发明专利]用于制造集成光子光学陀螺仪的工艺流程在审
| 申请号： | 202180024677.7 | 申请日： | 2021-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN115335743A | 公开（公告）日： | 2022-11-11 |
| 发明（设计）人： | 马里奥·帕尼西亚;阿维·费沙利 | 申请（专利权）人： | 阿内洛光电子公司 |
| 主分类号： | G02B6/10 | 分类号： | G02B6/10;G02B6/122;G02B6/132;G02B6/136;G02B6/12 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;吴启超 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开内容的方面涉及用于光学陀螺仪应用的基于紧凑型超低损耗集成光子学的波导的配置，以及制造那些波导以便于大规模制造的方法。描述了四个主要工艺流程：(1)基于氧化物沉积和退火的重复序列的工艺流程；(2)基于化学机械抛光(CMP)的工艺流程，然后是晶片结合；(3)镶嵌工艺流程，然后是氧化物沉积和退火或晶片结合；以及(4)基于CMP的工艺流程，然后是氧化物沉积。可采用这些工艺流程的任何组合来满足使用标准硅制造技术在硅基板上以一个或多个层制造光学陀螺仪波导的最终目标。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 集成 光子 光学 陀螺仪 工艺流程 | ||
【主权项】：
暂无信息
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