[发明专利]光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法在审
申请号: | 202180029750.X | 申请日: | 2021-03-04 |
公开(公告)号: | CN115427861A | 公开(公告)日: | 2022-12-02 |
发明(设计)人: | 大竹史哲;三轮哲史;伊藤匡辉 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G02B13/02 | 分类号: | G02B13/02 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 季莹;方应星 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
将使用于相机(1)等光学设备的光学系统构成为,从物体侧依次由第1透镜组、对焦组以及后组构成,所述第1透镜组具有正的光焦度,所述对焦组在进行对焦时沿着光轴移动,将在第1透镜组内隔着最大的空气间隔A配置于物体侧的透镜组设为第1A透镜组,所述光学系统满足以下所示的条件式:1.00FNo×(TL/f) |
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搜索关键词: | 光学系统 光学 设备 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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