[发明专利]种子层、包括所述种子层的异质结构体和使用所述种子层形成材料层的方法在审

专利信息
申请号: 202180033843.X 申请日: 2021-03-09
公开(公告)号: CN115551801A 公开(公告)日: 2022-12-30
发明(设计)人: 巴巴罗斯.欧伊尔迈兹;卓志达;伊凡.海德.阿比迪 申请(专利权)人: 新加坡国立大学
主分类号: C01B32/05 分类号: C01B32/05;C23C16/26;C01G39/06
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邢岳
地址: 新加坡*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 描述了用于诱导成核以形成材料层(106)的种子层(102)。在一种实施方式中,种子层(102)包括具有如下无序原子结构的二维(2D)单层无定形材料的层:其适合于产生局域电子态以形成用于经由范德华(vdW)相互作用将吸附原子结合至种子层(102)的表面以形成所述材料层的电势阱,其中所述电势阱各自具有如下势能:其在大小上大于周围的热能以将吸附原子俘获在所述种子层的表面上。还描述了关于用于形成所述种子层的方法、包括种子层(102)的异质结构体100、用于形成包括所述种子层的所述异质结构体的方法(300)、包括所述异质结构体的器件和增强吸附原子和所述种子层的表面之间的vdW相互作用的方法的实施方式。在一种具体实施方式中,所述2D单层无定形材料的层为2D单层无定形碳。
搜索关键词: 种子 包括 结构 使用 形成 材料 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新加坡国立大学,未经新加坡国立大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202180033843.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top