[发明专利]用于量子应用的光子对源在审
| 申请号： | 202180036265.5 | 申请日： | 2021-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN115668016A | 公开（公告）日： | 2023-01-31 |
| 发明（设计）人： | J·P·埃平 | 申请（专利权）人： | 莱恩尼克斯国际有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B6/12 | 分类号： | G02B6/12;G02B6/293;H01S5/14;H01S5/10;H01S3/108 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 林彦 |
| 地址： | 荷兰恩*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开的方面涉及基于外腔激光器的光子对源，所述外腔激光器包括增益元件及平面光波电路，所述平面光波电路包含基于表面波导的镜及使得能够进行四波混频的环谐振器，其中所述表面波导镜及所述环谐振器驻留在所述激光器自身的所述增益腔内。因此，根据本公开的光子对源能够具有：(1)整个激光器腔的更大自由光谱范围，以使得能够产生单个波长以实现单模操作而无需额外稳定；以及(2)低激光器噪声，借此使得能够进行对所产生光子对的检测及使用。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 量子 应用 光子 | ||
【主权项】：
暂无信息
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