[发明专利]对准方法以及相关的对准和光刻设备在审
申请号: | 202180037591.8 | 申请日: | 2021-05-11 |
公开(公告)号: | CN115668068A | 公开(公告)日: | 2023-01-31 |
发明(设计)人: | E·M·赫尔斯埃博;F·G·C·比基恩 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 胡良均 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 公开了一种在对准标记上执行位置测量的方法以及相关联的设备,该对准标记至少包括第一周期性结构,具有沿着第一方向的周期性的方向。该方法包括获得与位置测量相关的信号数据,并且拟合信号数据以确定位置值。拟合步骤使用调制拟合或者背景包络周期性拟合中的一个。 | ||
搜索关键词: | 对准 方法 以及 相关 光刻 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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