[发明专利]用于纯化溶剂的系统及方法在审
| 申请号： | 202180038242.8 | 申请日： | 2021-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN115702031A | 公开（公告）日： | 2023-02-14 |
| 发明（设计）人： | 爱德华多·拉米瑞兹·罗梅洛;大卫·柏林格 | 申请（专利权）人： | 富士胶片电子材料美国有限公司 |
| 主分类号： | B01D15/36 | 分类号： | B01D15/36;B01D61/02;B01D61/08 |
| 代理公司： | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人： | 艾佳 |
| 地址： | 美国罗*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及纯化溶剂的方法及系统。经纯化溶剂可用于在多步骤半导体制造过程中清洁半导体基板。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 纯化 溶剂 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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