[发明专利]用于校准的系统和方法在审
| 申请号： | 202180039328.2 | 申请日： | 2021-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN115698682A | 公开（公告）日： | 2023-02-03 |
| 发明（设计）人： | 吉尔伯图·马丁斯洛雷罗;安东尼奥·罗恰;保罗·里贝罗;安娜·卡特里娜·维奥朗特维埃拉 | 申请（专利权）人： | 斯玛特克斯欧洲一人有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/89 | 分类号： | G01N21/89;G01N21/898;G01N21/93 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 李健;王漪 |
| 地址： | 葡萄牙*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开内容提供了用于校准的系统和方法。在一个示例中，该方法可以包括用于校准的光学图像分析。该方法可包括生成一个或多个校准特征在材料制造或加工机器中提供的材料表面上的光学投影，并确定校准特征的一个或多个空间特性。一个或多个空间特性可以包括一个或多个校准特征的距离、位置、取向、对准、大小或形状。一个或多个空间特性可以用于调整以下中的至少一个：(i)成像单元相对于材料表面和材料制造或加工机器的位置或取向，(ii)材料表面相对于成像单元的角度或倾斜度，以及(iii)成像单元的一个或多个成像参数。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 校准 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于斯玛特克斯欧洲一人有限公司，未经斯玛特克斯欧洲一人有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202180039328.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
