[发明专利]磁镜机在审
| 申请号： | 202180044436.9 | 申请日： | 2021-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN115867985A | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 扬·詹德伯格 | 申请（专利权）人： | 诺瓦特伦融合集团公司 |
| 主分类号： | G21B1/05 | 分类号： | G21B1/05 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 赵金强;张成新 |
| 地址： | 瑞典*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于等离子体约束的磁镜机(2100；2200；3100；3200)，包括：纵向设置的多个超导体线圈(2104，2105，2106a，2106b)，该多个超导体线圈被布置用于产生开放场线等离子体约束区域(2106)，所述等离子体约束区域(2106)在两端中的每一端处由相对于所述等离子体约束区域(2106)的中心区域(2110)增大了磁通量密度的相应镜区域(2108)限制，其中，所述多个超导体线圈中的超导体线圈(2105，2106a，2106b)位于所述镜区域(2108)附近，并且所述超导体线圈(2105，2106a，2106b)在与穿过所述镜区域的磁场线(2112)相交的平面中所具有的截面在沿着所述磁场线(2112)的方向上具有长形形状。 | ||
| 搜索关键词： | 磁镜 | ||
【主权项】：
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