[发明专利]光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法在审
| 申请号： | 202180046084.0 | 申请日： | 2021-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN115997151A | 公开（公告）日： | 2023-04-21 |
| 发明（设计）人： | 村谷真美 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G02B13/00 | 分类号： | G02B13/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 季莹;方应星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 光学系统(OL)由沿着光轴从物体侧依次排列的前组(GA)、光圈(S)以及后组(GB)构成，后组(GB)具有对焦透镜组(GF1)，该对焦透镜组(GF1)配置于后组(GB)的最靠物体侧，且具有负的光焦度，在进行对焦时，对焦透镜组沿着光轴移动，相邻的各透镜组之间的间隔变化，光学系统(OL)满足以下条件式：0.50ST/TL0.95其中，ST：从光圈(S)到像面(I)为止的光轴上的距离，TL：光学系统(OL)的全长。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 光学 设备 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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