[发明专利]位置检测装置在审
| 申请号： | 202180046703.6 | 申请日： | 2021-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN115735098A | 公开（公告）日： | 2023-03-03 |
| 发明（设计）人： | 中村大佐;杉本拓也;伊藤吉博 | 申请（专利权）人： | 株式会社村田制作所 |
| 主分类号： | G01D5/16 | 分类号： | G01D5/16 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 董婷婷 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 磁传感器(7)能够对在光学反射元件旋转时进行相对移动的位置检测用磁体(6)所施加的磁场进行检测。位置检测用磁体(6)能够由于光学反射元件的旋转而通过基准位置(B)，该基准位置(B)为从旋转轴(C)的轴向观察时旋转轴(C)、磁传感器(7)的中心(7c)、位置检测用磁体(6)的中心(6c)排列于一直线上时的位置。磁传感器(7)配置于包含穿过位于基准位置(B)的位置检测用磁体(6)的中心(6c)的磁化方向(M)、以及旋转轴(C)的轴向的XZ平面内。 | ||
| 搜索关键词： | 位置 检测 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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