[发明专利]变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法在审
| 申请号： | 202180047082.3 | 申请日： | 2021-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN115867845A | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 町田幸介 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G02B15/20 | 分类号： | G02B15/20 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 季莹;方应星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 变倍光学系统(ZL)具备具有正的光焦度的前侧透镜组(GA)、具有负的光焦度的第1中间透镜组(GM1)、具有正的光焦度的第2中间透镜组(GM2)以及后续透镜组(GR)，后续透镜组(GR)包含在进行对焦时沿着光轴移动的多个对焦透镜组，变倍光学系统(ZL)满足以下条件式：‑0.37fFs/fFy0.37,2.00f1/fw8.00其中，fFs：对焦透镜组中的光焦度最强的对焦透镜组的焦距，fFy：对焦透镜组中的光焦度最弱的对焦透镜组的焦距，f1：前侧透镜组(GA)的焦距，fw：广角端状态下的变倍光学系统(ZL)的焦距。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 光学 设备 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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