[发明专利]远红外线透射构件和远红外线透射构件的制造方法在审
| 申请号： | 202180052579.4 | 申请日： | 2021-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN115989396A | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 安井容二;前重和伸;真下尚洋;尾山卓司;青峰信孝;洼野爱弥 | 申请（专利权）人： | AGC株式会社 |
| 主分类号： | G01J1/02 | 分类号： | G01J1/02 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 杨青;安翔 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明适当地抑制远红外线的反射并且适当地形成减反射膜。远红外线透射构件(20)具有透射远红外线的基材(30)和功能膜(32)，所述功能膜(32)形成于基材(30)上，并且包含以氧化物作为主要成分并且对波长10μm的光的折射率为1.5以下的低折射率层(34)，低折射率层(34)以MgO作为主要成分，并且相对于低折射率层(34)的整体，MgO的含有率为50质量％以上且100质量％以下。 | ||
| 搜索关键词： | 红外线 透射 构件 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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