[发明专利]半导体制造厂中的污染的标识方法和装置在审
| 申请号： | 202180055250.3 | 申请日： | 2021-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN116113887A | 公开（公告）日： | 2023-05-12 |
| 发明（设计）人： | T·P·科利根;P·斯马尔;C·E·塔贝里;T·多斯·桑托斯·古泽拉;V·巴斯塔尼 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 张宁;杨飞 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了标识半导体制造厂中的污染的方法和相关装置。该方法包括：确定被夹紧到晶片台上的多个半导体晶片在半导体制造厂中被处理之后的污染图数据。至少部分基于多个半导体晶片的污染图数据的组合来确定经组合的污染图数据。经组合的污染图数据与参考数据组合。参考数据包括针对经组合的污染图数据的、指示半导体制造厂中的一个或多个工具中的污染的一个或多个值。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 制造厂 中的 污染 标识 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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