[发明专利]通过PVD由金属靶产生的富Al的AlTiN涂层

摘要

本发明涉及涂层及其生产方法，其中所述涂层包含Al、Ti和N作为主要组分，并具有根据式(AlaTib)xNy的关于这些元素的按原子百分比计的化学元素组成，其中a和b分别为铝和钛的原子比浓度，仅考虑Al和Ti以计算所述层中的元素组成，其中a+b＝1且0≠a≥0.7且0≠b≥0.2，且其中x为Al的浓度与Ti的浓度之和，且y为氮的原子比浓度，仅考虑Al、Ti和N以计算所述层中的元素组成，其中x+y＝1且0.45≤x≤0.55，并且其中所述涂层表现出90％或更多的fcc立方相，和2.5GPa或更大，优选2.5GPa至6GPa的压缩应力。