[发明专利]膜形成方法、物品制造方法、供应设备、膜形成装置和基板在审
| 申请号： | 202180066711.7 | 申请日： | 2021-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN116348207A | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 加藤顺 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | B05C11/10 | 分类号： | B05C11/10 |
| 代理公司： | 北京怡丰知识产权代理有限公司 11293 | 代理人： | 迟军;高华丽 |
| 地址： | 日本东京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在基板上形成膜的膜形成方法中，所述基板包括：包含第一凹陷部分和第二凹陷部分的区域，所述第一凹陷部分的宽度大于所述第二凹陷部分的宽度，并且所述膜形成方法包括：第一步骤，将第一材料选择性地供应到所述第一凹陷部分中，并对所述第一材料进行成型；以及第二步骤，将第二材料供应到所述区域上，并对所述第二材料进行成型，使得所述第二凹陷部分被所述第二材料填充，并且在整个所述区域上形成所述第二材料的平坦化膜。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 方法 物品 制造 供应 设备 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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