[发明专利]具有光敏本征区的二极管在审

专利信息
申请号: 202180069940.4 申请日: 2021-08-27
公开(公告)号: CN116349018A 公开(公告)日: 2023-06-27
发明(设计)人: S·利施克 申请(专利权)人: IHP有限责任公司/莱布尼茨创新微电子研究所
主分类号: H01L31/105 分类号: H01L31/105
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 曲莹
地址: 德国法*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种二极管(300),该二极管包括p型掺杂区(312)、n型掺杂区(314)和光敏本征区(310),该光敏本征区(310)在与二极管(300)中的光传播方向横切的方向上横向夹在所述p型掺杂区(312)与所述n型掺杂区(314)之间。所述p型掺杂区(312)由掺杂有第一类型的掺杂剂的第一材料制成,所述n型掺杂区(314)由掺杂有第二类型的掺杂剂的第三材料制成。所述第一材料包括硅或硅锗。所述第三材料包括硅或硅锗。所述本征区(310)由与第一材料和第二材料中的至少一种不同的第二材料制成。所述第二材料包括锗、锗锡或硅锗。所述本征区(310)在其两个横向端(318、320)之间的最大横向延伸量等于或小于400纳米。所述p型掺杂区(312)和所述n型掺杂区(314)是原位掺杂的,从而在制造二极管(300)时所述本征区(310)不被掺杂。
搜索关键词: 具有 光敏 二极管
【主权项】:
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