[发明专利]表面处理剂在审
| 申请号： | 202180075290.4 | 申请日： | 2021-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN116457438A | 公开（公告）日： | 2023-07-18 |
| 发明（设计）人： | 森安礼奈;波北悟;森田正道 | 申请（专利权）人： | 大金工业株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/00 | 分类号： | C09K3/00 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;邸万杰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： |
本发明的表面处理剂含有：(A)下述式(A1)或式(A2)所示的化合物；和(B)下述式(B1)或式(B2)所示的化合物，上述表面处理剂含有上述式(A2)所示的化合物或上述式(B2)所示的化合物中的至少1种。 |
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| 搜索关键词： | 表面 处理 | ||
【主权项】：
暂无信息
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