[发明专利]用于对衬底区域上的测量数据进行建模的方法及相关装置在审

专利信息
申请号: 202180076518.1 申请日: 2021-11-09
公开(公告)号: CN116472500A 公开(公告)日: 2023-07-21
发明(设计)人: G·滕·哈弗;S·阿德彦塔亚 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 张宁
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了一种用于对光刻过程中与衬底有关的衬底区域上的测量数据进行建模的方法。该方法包括:获得与所述衬底有关的测量数据,并且执行组合拟合以拟合到测量数据:至少第一场间模型和场变形模型,该第一场间模型描述衬底上的变形,该场变形模型描述曝光场内的变形;其中:所述至少第一场间模型包括径向基函数模型或弹性能量最小化样条模型;或者所述方法还包括:将径向基函数模型或弹性能量最小化样条模型拟合到不同场间模型和场变形模型的组合拟合的变形残差。
搜索关键词: 用于 衬底 区域 测量 数据 进行 建模 方法 相关 装置
【主权项】:
暂无信息
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