[发明专利]场分面系统和光刻设备在审
| 申请号： | 202180078713.8 | 申请日： | 2021-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN116490825A | 公开（公告）日： | 2023-07-25 |
| 发明（设计）人： | A·施米特纳;W·安德尔;S·利波尔特;J·罗塞尔;R·W·M·詹森 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于光刻设备(100A、100B)的场分面系统(300A、300B、300C、300D、300E)，所述系统包括：光学元件(302)，该光学元件(302)包括具有反光的光学有效表面(308)的可弹性变形的分面部分(306)；以及至少一个致动元件(324、326、350、352)，用于将弯矩(B1、B2)引入分面部分(306)中以使分面部分(306)变形，从而改变光学有效表面(308)的曲率半径(K1、K2),分面部分(306)在光学有效表面(308)的平面图中以弓形形式弯曲，并且分面部分(306)的刚度在沿着分面部分(306)的纵向方向(L1、L2)观察时是可变的，使得当弯矩(B1、B2)被引入分面部分(306)中时，垂直于光学有效表面(308)取向的法向矢量(N)仅仅关于空间方向(x)倾斜。 | ||
| 搜索关键词： | 场分面 系统 光刻 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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