[发明专利]场分面系统和光刻设备在审
| 申请号： | 202180078715.7 | 申请日： | 2021-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN116472499A | 公开（公告）日： | 2023-07-21 |
| 发明（设计）人： | A·施密特纳;W·安德尔;R·阿梅林;S·利波尔特;J·罗西尔斯;R·W·M·詹森 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于光刻设备(100A、100B)的场分面系统(300A、300B、300C、300D、300E、300F、300G、300H)，所述系统包括：光学元件(302)，该光学元件(302)包括基体(204)和可弹性变形的分面部分(306)，该分面部分连接到基体(204)并具有光反射的光学有效表面(308)；以及多个致动元件(332、334、336、338)，用于使分面部分(306)变形，以便改变光学有效表面(308)的曲率半径(K1、K2)，致动元件(332、334、336、338)可操作地连接到分面部分(306)，以便将致动元件(332、334、336、338)的热致偏转与分面部分(306)隔离，从而使曲率半径(K1、K2)不受致动元件(332、334、336、338)的所述热致偏转影响。 | ||
| 搜索关键词： | 场分面 系统 光刻 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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