[发明专利]在装置制造期间对多层堆叠结构的前馈控制在审
| 申请号： | 202180078843.1 | 申请日： | 2021-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN116472437A | 公开（公告）日： | 2023-07-21 |
| 发明（设计）人： | 普里亚达希·潘达;连磊;莱昂纳德·迈克尔·泰德斯基 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;吴启超 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种在基板上形成多层堆叠结构的方法包括：在第一工艺腔室中使用第一沉积工艺处理基板以在该基板上沉积多层堆叠结构的第一层；自第一工艺腔室移除基板；使用光学传感器测量第一层的第一厚度；基于第一层的第一厚度确定多层堆叠结构的第二层的目标第二厚度；确定将实现第二层的第二目标厚度的第二沉积工艺的一或多个工艺参数值；及在第二工艺腔室中使用具有该一或多个工艺参数值的第二沉积工艺处理基板以在第一层之上沉积多层堆叠结构的近似具有目标第二厚度的第二层。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 制造 期间 多层 堆叠 结构 控制 | ||
【主权项】：
暂无信息
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