[发明专利]扫描散射测量叠盖测量在审
| 申请号： | 202180086549.5 | 申请日： | 2021-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN116783474A | 公开（公告）日： | 2023-09-19 |
| 发明（设计）人： | A·V·希尔;A·玛纳森 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种叠盖度量系统可包含照明子系统，所述照明子系统用以利用第一照明瓣及与所述第一照明瓣对置的第二照明瓣依序对叠盖目标进行照明，其中所述叠盖目标包含从第一样本层及第二样本层上的周期性结构形成的光栅上覆光栅特征。所述系统可进一步包含用以产生所述叠盖目标的第一图像及第二图像的成像子系统。所述第一图像包含所述光栅上覆光栅结构的从所述第一照明瓣的单个非零衍射级形成的未解析图像。所述第二图像包含所述一或多个光栅上覆光栅结构的从所述第二照明瓣的单个非零衍射级形成的未解析图像。所述系统可进一步包含用以基于所述第一图像及所述第二图像而确定所述第一层与所述第二层之间的叠盖误差的控制器。 | ||
| 搜索关键词： | 扫描 散射 测量 | ||
【主权项】：
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