[发明专利]深紫外激光源在审
| 申请号： | 202180088190.5 | 申请日： | 2021-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN116670949A | 公开（公告）日： | 2023-08-29 |
| 发明（设计）人： | 潘乔·察内科夫;亚历克斯·尤西姆 | 申请（专利权）人： | IPG光子公司 |
| 主分类号： | H01S3/10 | 分类号： | H01S3/10 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 纪雯;李敬文 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种用于生成深紫外(DUV)激光的方法和系统。在一个实施例中，DUV激光系统包括：光纤激光源，被配置为发射脉冲持续时间小于400飞秒(fs)的近红外脉冲基波激光束；非线性晶体组件，包括第一非线性晶体、第二非线性晶体和第三非线性晶体，该非线性晶体组件被配置为转换基波激光束以产生波长在200纳米(nm)至230nm范围内的五次谐波激光束；以及至少一个补偿板，设置在第一非线性晶体、第二非线性晶体和第三非线性晶体中的至少一个非线性晶体之前的至少一个位置中，并且被配置为使得通过至少一个补偿板传输的一对脉冲激光束在第一非线性晶体、第二非线性晶体和第三非线性晶体中的至少一个非线性晶体内在空间上和时间上重叠。 | ||
| 搜索关键词： | 深紫 激光 | ||
【主权项】：
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