[发明专利]真空蒸镀装置用蒸镀源在审
| 申请号： | 202180089399.3 | 申请日： | 2021-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN116746298A | 公开（公告）日： | 2023-09-12 |
| 发明（设计）人： | 中村寿充;小野田淳吾 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | H10K71/16 | 分类号： | H10K71/16;H10K50/10 |
| 代理公司： | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 | 代理人： | 齐永红;秦岩 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种真空蒸镀装置用蒸镀源，其在使蒸镀物质蒸发而对被蒸镀物进行蒸镀时，能够增加每单位时间的蒸发量，对被蒸镀物的蒸镀速率高。本发明的真空蒸镀装置(Dm)用蒸镀源(DS)配置在真空室内(1)，用于使固体的蒸镀物质蒸发而对被蒸镀物进行蒸镀，具备：坩埚(4)，其可收纳蒸镀物质(Ms)，具有将蒸发的蒸镀物质向被蒸镀物(Sw)放出的放出口(41)；以及加热装置(6)，其可加热坩埚内的蒸镀物质；在坩埚内具备蒸发促进部(5)，该蒸发促进部(5)设置为一部分(5a)被通过加热而熔化的蒸镀物质(Ml)浸渍，并且其剩余部分(5b)距离坩埚内表面(42)留有间隙(D1)地设置。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 装置 用蒸镀源 | ||
【主权项】：
暂无信息
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