[发明专利]污染减少系统在审
| 申请号： | 202180090359.0 | 申请日： | 2021-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN116685910A | 公开（公告）日： | 2023-09-01 |
| 发明（设计）人： | V·克冯;A·M·雅库尼恩;M·A·范德克尔克霍夫;D·I·阿施塔克霍夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种污染减少系统，用于减少等离子体环境中的图案化系统的污染，其包括：支撑件，被布置成将图案化系统保持在辐射束中；遮光件，被配置成为图案化系统遮挡辐射束的一部分；以及电极，定位在遮光件和支撑件之间，电极连接到电压源，并被配置成在电极和由支撑件保持的图案化系统之间产生电场。 | ||
| 搜索关键词： | 污染 减少 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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