[发明专利]用于投影光学器件加热的多通道光源在审
| 申请号： | 202180091778.6 | 申请日： | 2021-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN116830042A | 公开（公告）日： | 2023-09-29 |
| 发明（设计）人： | L·J·A·凡鲍克霍文;M·U·阿高恩卡 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 毕杨 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 提供用于加热多个光学部件的系统、设备和方法。示例性方法可以包括接收来自辐射源的输入辐射束。所述示例性方法还可以包括基于所述输入辐射束产生多个输出辐射束。所述示例性方法还可以包括朝向被配置成加热所述多个光学部件的多个加热器头部光学器件传送所述多个输出辐射束。可选地，所述示例性方法还可以包括控制所述多个输出辐射束中的每个输出辐射束的对应的功率值且实现平顶的远场轮廓。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 投影 光学 器件 加热 通道 光源 | ||
【主权项】：
暂无信息
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