[发明专利]变倍率极紫外光刻投影曝光光学系统有效
| 申请号： | 202210015194.7 | 申请日： | 2022-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN114253089B | 公开（公告）日： | 2023-02-17 |
| 发明（设计）人： | 李艳秋;闫旭;刘丽辉;刘克 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 刘西云 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种变倍率极紫外光刻投影曝光光学系统，采用变倍率中继镜组在X方向上和Y方向上对外包络为圆形的二次光源进行不同倍率的放大，得到下一代光刻机的变倍率成像模块所需要的椭圆形光源；也就是说，为了获取下一代光刻机所需要的椭圆形光源，本发明采用变倍率中继镜组进行光源的转换，进而可以继续使用现有的非变倍率的照明组件，也即使用现有的外包络为圆形的二次光源，大大节约了研发成本。 | ||
| 搜索关键词： | 倍率 紫外 光刻 投影 曝光 光学系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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