[发明专利]内连线结构在审
| 申请号： | 202210031627.8 | 申请日： | 2022-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN114530431A | 公开（公告）日： | 2022-05-24 |
| 发明（设计）人： | 黄心岩;罗廷亚;李劭宽;邓志霖;李承晋;张孝慷;眭晓林 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/48 | 分类号： | H01L23/48;H01L21/48 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 聂慧荃;郑特强 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本公开提出一种内连线结构。内连线结构包括介电层、第一导电结构、导电层、第一阻挡层、第二阻挡层及支撑层。第一导电结构位于介电层中；导电层位于介电层上。导电层包括相邻的第一部分与第二部分，且导电层的第二部分位于第一导电结构上。第一阻挡层接触导电层的第一部分；第二阻挡层接触导电层的第二部分；支撑层接触第一阻挡层与第二阻挡层。气隙位于第一阻挡层与第二阻挡层之间，且介电层与支撑层暴露至气隙。 | ||
| 搜索关键词： | 连线 结构 | ||
【主权项】：
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