[发明专利]一种低铁损高磁感取向硅钢薄带及其制备方法有效
| 申请号： | 202210050753.8 | 申请日： | 2022-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN114561597B | 公开（公告）日： | 2023-03-10 |
| 发明（设计）人： | 程朝阳;刘静;钟柏林;贾涓;宋新莉;倪正轩 | 申请（专利权）人： | 武汉科技大学 |
| 主分类号： | C22C38/16 | 分类号： | C22C38/16;C22C38/12;C22C38/06;C22C38/04;C22C38/02;C21D8/02;C21D1/26 |
| 代理公司： | 武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙) 42242 | 代理人： | 朱才永 |
| 地址： | 430081 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种低铁损高磁感取向硅钢薄带及其制备方法，低铁损高磁感取向硅钢薄带的化学成分按质量百分比为：C：0.003‑0.008；Si：3.0～4.0；Al：0.5～1.0；Mn：0.06～0.12；Cu：0.2～0.4；N：0.01‑0.02；S：0.004～0.02；Nb：0.001～0.01；其余为Fe和不可避免的杂质；其制备工艺为：冶炼，将冶炼的钢水铸轧成薄带，然后将薄带热轧成热轧板；再将热轧板进行常化处理，再将常化处理后的热轧板冷轧成取向硅钢薄带；最后将取向硅钢薄带进行再结晶退火和高温退火，即得低铁损高磁感取向硅钢薄带，低铁损高磁感取向硅钢薄带为上述工艺制造的薄带，该工艺简单和流程短；得到的低铁损高磁感取向硅钢薄带不仅规格薄，且铁损低和磁感高，解决了现有低铁损高磁感取向硅钢薄带的制备工艺复杂、低铁损与高磁感难以兼顾的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 低铁损高磁感 取向 硅钢 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉科技大学，未经武汉科技大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210050753.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
