[发明专利]一种高深径比盲孔铜填充电镀液及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202210051712.0 申请日: 2022-01-17
公开(公告)号: CN114232041A 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 江莉;琚文涛;徐舒婷;卫国英;张中泉;任骊 申请(专利权)人: 中国计量大学
主分类号: C25D5/00 分类号: C25D5/00;C25D3/38;C25D7/00;C25D7/12;H05K3/42;C07C335/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310018 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及电镀技术领域,具体涉及一种高深径比盲孔填充电镀液及其制备方法。一种高深径比盲孔铜填充的电镀液及其制备方法,所述电镀液由质量配比如下的组分组成:铜盐165~210g/L,硫酸70~125g/L,氯化钾20~60mg/L,络合剂2.0~5.0g/L,加速剂JL‑1 50~200mg/L,健那绿B 10~50mg/L。加速剂JL‑1为一种复合型加速剂,由2‑S‑硫脲丙磺酸钠,聚乙二醇,甲壳胺组成。该电镀液可用于线路板盲孔的电镀,电镀液的稳定性好;具有较强的深镀能力,填孔率95%以上;制备工艺生产效率高,适合工业化生产,在印刷线路板、集成线路、半导体等行业可发挥重要作用。
搜索关键词: 一种 高深 盲孔铜 填充 电镀 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
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