[发明专利]用于X射线成像的自动曝光控制在审
| 申请号： | 202210053714.3 | 申请日： | 2016-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN114469147A | 公开（公告）日： | 2022-05-13 |
| 发明（设计）人： | D·莫尔夫;R·菲利贝蒂 | 申请（专利权）人： | 瓦里安医疗系统国际股份公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00;H05G1/28;H05G1/60 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在X射线成像方法中，获取信号图像被分成获取两个或更多个子图像或帧。第一子图像可以用低剂量曝光随后的读出周期获取。可以选择用于获取第一子图像的曝光剂量，使得其低于用于特定解剖结构的默认剂量。第一子图像可以用来计算或估计用于获取第二个或后续图像的子图像的曝光参数。该估计可以使得由成像器接收的总剂量在获取第一子图像和第二子图像中达到预期目标值以提供质量良好的图像。可以组合第一子图像和第二子图像以形成最终图像。支持自动曝光控制(AEC)的检测器阵列包括提供AEC信号的AEC像素。AEC像素是独立或单独可寻址的和/或可读取的。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 射线 成像 自动 曝光 控制 | ||
【主权项】：
暂无信息
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