[发明专利]离子注入方法及离子注入装置在审
| 申请号： | 202210057445.8 | 申请日： | 2022-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN114823261A | 公开（公告）日： | 2022-07-29 |
| 发明（设计）人： | 二口泰成 | 申请（专利权）人： | 住友重机械离子科技株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/304 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 夏斌 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及离子注入方法及离子注入装置，可加速射束能量的调整。离子注入方法具备如下工序：根据用于将从高能量多级线性加速单元输出的离子束(IB)的射束能量设为第1输出值的第1数据集，决定用于将射束能量设为第2输出值的第2数据集。高能量多级线性加速单元具有多级的高频加速部(101～115)。各级的高频加速部(101～115)的加速相位在多级的高频加速部(101～115)的全部中在第1数据集与第2数据集之间相同。各级的高频加速部(101～115)的电压振幅在多级的高频加速部(101～115)的至少一级的的高频加速部中在第1数据集与第2数据集之间不同。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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