[发明专利]一种基于残差网络的光刻掩模优化方法在审
| 申请号： | 202210062320.4 | 申请日： | 2022-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN114326329A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 许爽;肖再南;唐青;曹唯一;陈志强;李思萌;林馨怡 | 申请（专利权）人： | 武汉科技大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人： | 张晓博 |
| 地址： | 430081 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于残差网络的光刻掩模优化方法，通过光刻逆向优化过程对残差网络进行训练，优化残差网络参数，随后将初始掩模图形输入网络，并将优化结果输入正向光刻模型，得到晶圆曝光图像。本发明方法通过对残差网络进行逆向优化训练，减少掩模优化迭代次数，大幅度提升深度网络准确率，避免了网络层数增加产生的梯度消失的问题，实现了对光刻生成图像的畸变校正。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 网络 光刻 优化 方法 | ||
【主权项】：
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