[发明专利]基于掩膜板的电射流法交替沉积软硬复合薄膜的制备工艺在审

专利信息
申请号: 202210065072.9 申请日: 2022-01-20
公开(公告)号: CN114481099A 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 张志慧;邓建新 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: C23C18/06 分类号: C23C18/06;C23C18/12;C23C24/08
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 王磊
地址: 250061 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明属于减摩耐磨薄膜领域,涉及基于掩膜板的电射流法交替沉积软硬复合薄膜的制备工艺。其制备工艺为:提供掩膜板,所述掩膜板设置若干条形空穴,将掩膜板覆盖在基体表面,利用电射流沉积法在掩膜板的空穴内沉积硬涂层材料前体,再将沉积后的硬涂层材料前体烧结形成硬质条形结构,再将掩膜板覆盖在基体表面,使掩膜板的空穴位于硬质条形结构之间,然后电射流沉积法在掩膜板的空穴内沉积软涂层材料,将沉积后的软涂层材料热处理,即得。本发明不仅能够解决单一材料的不足,使用寿命大大提高,而且材料用量较少,膜层更薄,易实现工业化生产。
搜索关键词: 基于 掩膜板 射流 交替 沉积 软硬 复合 薄膜 制备 工艺
【主权项】:
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