[发明专利]一种多腔体化学气相沉积设备在审
申请号: | 202210071484.3 | 申请日: | 2022-01-21 |
公开(公告)号: | CN114411120A | 公开(公告)日: | 2022-04-29 |
发明(设计)人: | 王萍 | 申请(专利权)人: | 德州智南针机械科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458;C23C16/46;C23C16/54 |
代理公司: | 天津盈佳知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12224 | 代理人: | 安娜 |
地址: | 253000 山东省德州市经济技术开发区袁桥镇东方红东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种多腔体化学气相沉积设备,包括箱体,所述箱体上设有气体供给结构,所述箱体内部通过若干个分隔结构分隔成多个腔体,所述箱体内部设有若干个加热结构,所述箱体内部设有若干个升降结构,若干个所述升降结构上均设有载物结构,本发明的有益效果是,在沉积时间较长的情况下,如金刚石膜、非晶硅膜,但不仅限于金刚石膜和非晶硅膜,可以在三个、十个或多个腔体的设备中同时进行沉积,一次性规模化完成膜材料的工业制备,节省了硬件投资成本和运行成本;在复杂的工艺条件和顺序下,视工艺条件而定,沉积工艺可以在单腔体中进行,通过升降台调整基板和热丝以及气体分配系统的距离,避免发生副反应,影响产品质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 多腔体 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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