[发明专利]一种超低应力的8-12μm红外宽带增透薄膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种超低应力的8‑12μm红外宽带增透薄膜及其制备方，超低应力的8‑12μm红外宽带增透薄膜，膜系结构为SUB/aHbLcHdLeH/air，其中，SUB代表蓝宝石基底、air代表空气、H代表ZnSe层、L代表Yb‑A层，Yb‑A层为YF3与掺钙1wt％‑8wt％的YbF体积比为1:1‑5:1的混合膜层；a‑e代表每层的四分之一参考波长光学厚度的系数。本发明超低应力的8‑12μm红外宽带增透薄膜及其制备方，通过混合膜料的搭配，得到了应力变化较小的增透膜层，使成品后膜层的面型维持在基底本身原有的面型，从而获得较好的薄膜牢固度，有效解决膜层间应力大及膜层附着力小的问题，使得到的膜层既有良好的光谱性能又有较好的机械稳性能，8‑12μm平均单面反射率不大于0.3％，平均双面透过率不小于99.3％，薄膜应力接近为0。