[发明专利]一种范德华异质结负折射聚焦器件在审
| 申请号： | 202210085143.1 | 申请日： | 2022-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN114442207A | 公开（公告）日： | 2022-05-06 |
| 发明（设计）人： | 戴庆;胡海;陈娜;滕汉超 | 申请（专利权）人： | 国家纳米科学中心 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;G02F1/015 |
| 代理公司： | 北京恒律知识产权代理有限公司 11416 | 代理人： | 庞立岩 |
| 地址： | 100190 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开的一种范德华异质结负折射聚焦器件，包括由下至上依次设置的基底层、氧化钼层和石墨烯层；金属天线设置在氧化钼层上以及石墨烯层上；氧化钼层和石墨烯层构成石墨烯氧化钼范德华异质结。本发明通过基于氧化钼和石墨烯的范德华异质结来实现深亚波长负折射。无需复杂的微纳加工过程，能够有效避免反射和散射损耗。氧化钼声子极化激元与石墨烯表面等离激元所形成的混合拓扑极化激元可以通过对石墨烯费米能的调控实现对其色散轮廓的调控，从而实现界面处的深亚波长负折射，在此基础上，通过控制金属天线的位置，实现了全角负折射聚焦。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 范德华异质结负 折射 聚焦 器件 | ||
【主权项】：
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