[发明专利]一种牙釉质辐射剂量的预测方法、系统、存储介质及终端在审

专利信息
申请号: 202210087045.1 申请日: 2022-01-25
公开(公告)号: CN114488252A 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 刘玉连;冯端宇;焦玲;胡兵;张文艺;张世全;胡晨晨;林军平;景鹏伟 申请(专利权)人: 中国医学科学院放射医学研究所;四川大学
主分类号: G01T1/02 分类号: G01T1/02
代理公司: 天津盈佳知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12224 代理人: 安娜
地址: 300192 *** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明属于辐射剂量估算分析技术领域,公开了一种牙釉质辐射剂量的预测方法、系统、存储介质及终端。选择与已准备的BGS基底和RIS基底一样的采样点,求得待预测样本对应点上的EPR谱图值;使用快速傅里叶变换对当前的待预测样本的EPR谱图进行降噪处理;通过改进矩阵,求得待预测样本的RIS强度;根据线性剂量响应关系,求得待预测样本的辐射剂量值。本发明计算量与原有矩阵方法持平,没有引入新的模型参数,参数数量少,拟合效果很好,拟合误差均小于1%,本发明可实现更低剂量的EPR牙釉质剂量估算,在小于0.3Gy的低剂量区内,计算所得的照射剂量值与真值相差≤16%。
搜索关键词: 一种 釉质 辐射 剂量 预测 方法 系统 存储 介质 终端
【主权项】:
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