[发明专利]激光脉冲增强型分子束外延系统的PLEES制备系统在审

专利信息
申请号: 202210090243.3 申请日: 2022-01-25
公开(公告)号: CN114457415A 公开(公告)日: 2022-05-10
发明(设计)人: 王暄;郑玥乾 申请(专利权)人: 哈尔滨理工大学
主分类号: C30B23/02 分类号: C30B23/02;C30B29/46
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 150080 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 发明公开了激光脉冲增强型分子束外延系统的PLEES制备系统,涉及纳米级薄膜技术领域;它的制备方法为:纯度为99.95%的Bi2Te3靶材和纯度为99.99%的Te靶材按1:1进行拼接形成混合靶材,并被置于外延室内;利用准分子激光器产生的激光束将混合靶材打散形成等离子束,分散的Bi原子和Te原子在另一侧衬底上沉积逐渐生长出纳米级薄膜;本发明的混合靶材能够极好地解决薄膜在生长过程中由于Te原子补充不足而出现的原子空位这个问题;保证了每一层外延膜的元素比例正确和Bi2Te3晶体的稳定生长;简化了操作流程,降低了生产成本,提高了薄膜生长速度,同时又能保证薄膜的生长质量。
搜索关键词: 激光 脉冲 增强 分子 外延 系统 plees 制备
【主权项】:
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